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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0122794 (2018-10-15) | |
공개번호 | 10-2020-0042330 (2020-04-23) | |
등록번호 | 10-2188779-0000 (2020-12-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180122794 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-10-15) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 일 실시예는, 온도 조절 가스가 공급되도록 적어도 하나 이상의 제1가스공급홀이 형성된 베이스 플레이트; 상기 베이스 플레이트 상에 구비되어 기판을 지지하고, 상기 제1가스공급홀과 연통되도록 적어도 하나 이상의 제2가스공급홀이 형성된 세라믹 정전척;을 포함하며, 상기 제2가스공급홀은 상기 정전척의 소결 전에 가공되는 기판 지지 장치를 제공한다.
온도 조절 가스가 공급되도록 적어도 하나 이상의 제1가스공급홀이 상면과 하면을 관통하도록 형성된 베이스 플레이트;상기 베이스 플레이트 상에 구비되어 기판을 지지하고, 상기 제1가스공급홀과 연통되도록 적어도 하나 이상의 제2가스공급홀이 상면과 하면을 관통하도록 형성된 정전척;을 포함하며,상기 제2가스공급홀은 상기 정전척의 소결 전에 가공되어 소결 후에 제2가스공급홀의 내벽은 결정립의 손상이 없고,상기 소결 후에 상기 제2 가스공급홀의 막힘을 해소하는 압력으로 유체가 상기 제2 가스공급홀 내에 공급되어 상기 소결 시 수축에 의한 가스
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