초록

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 광학소재의 경면 가공방법에 있어서, 광학소재에 열을 가하는 열 처리 단계; 및 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 경면화 단계; 를 포함하며, 경면화 단계는 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 적어도 일부를 녹여서 표면을 경면화 시키는 단계인 것을 특징으로 하는, 광학소재의 경면 가공방법이 개시된다.

대표청구항

광학소재의 경면 가공방법에 있어서,광학소재에 열을 가하는 열 처리 단계; 및상기 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 경면화 단계; 를 포함하며,상기 경면화 단계는 상기 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 적어도 일부를 녹여서 상기 표면을 경면화 시키는 단계인 것을 특징으로 하는, 광학소재의 경면 가공방법.

광학소재의 경면 가공방법에 있어서,광학소재에 열을 가하는 열 처리 단계; 및상기 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 경면화 단계; 를 포함하며,상기 경면화 단계는 상기 열 처리 단계가 수행된 광학소재 표면의 적어도 일부를 녹여서 상기 표면을 경면화 시키는 단계인 것을 특징으로 하는, 광학소재의 경면 가공방법.