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[한국특허] 광자극 구조를 구비한 질화갈륨계 센서 및 그 제조 방법
GALLIUM NITRIDE-BASED SENSOR HAVING PHOTIC STIMULATION STRUCTURE AND MANUTURING METHOD THEREOF
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G01N-027/12
출원번호 10-2017-0124250 (2017-09-26)
공개번호 10-2019-0035245 (2019-04-03)
등록번호 10-1989976-0000 (2019-06-11)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170124250
발명자 / 주소
  • 박경호 / 경기도 수원시 영통구 효원로 ***, ***동 ****호 (매탄동, 매탄위브하늘채)
  • 조주영 / 경기도 수원시 팔달구 중부대로***번길 ** (우만동, 우만주공*단지아파트) ***동 ****호
  • 박형호 / 대전광역시 유성구 구암동 ***-*번지 ***호
  • 고유민 / 경기도 용인시 기흥구 동백*로**번길 **-*
출원인 / 주소
  • (재)한국나노기술원 / 경기도 수원시 영통구 광교로 ***, 한국나노기술원연구벤처동 제*호(이의동)
대리인 / 주소
  • 이준성
심사청구여부 있음 (2017-09-26)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

광자극 구조를 구비한 질화갈륨계 센서 및 그 제조 방법이 개시된다. 광자극 구조를 구비한 질화갈륨계 센서 및 그 제조 방법은, 기판에 LED 에피층을 성장시키는 단계와; 상기 LED 에피층 상에 HR(High-resistance)-GaN 층을 성장시키는 단계와; 상기 HR-GaN 층 상에 u-GaN 층 및 AlxGa1-xN층, InxAl1-xN층 및 InxAlyGa1-x-yN층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종의 층을 순차적으로 성장시키는 단계와; 상기 LED 에피층에 전극을 형성할 수 있도록 패터닝을 수행하는 단계와; 상기 LE

대표청구항

기판에 LED 에피층을 성장시키는 단계; 상기 LED 에피층 상에 Barrier 층을 성장시키는 단계;상기 Barrier 층 상에 u-GaN 층, 그리고 AlxGa1-xN층, InxAl1-xN층 및 InxAlyGa1-x-yN층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종의 층을 순차적으로 성장시키는 단계; 상기 LED 에피층에 전극을 형성할 수 있도록 패터닝을 수행하는 단계; 상기 LED 에피층에 형성된 패턴에 따라 전극을 형성시키는 단계; 및상기 AlxGa1-xN층, InxAl1-xN층 및 InxAlyGa1-x-yN층으로 이루어지는 군에서

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 하이브리드 센서를 가지는 LED chip과 그 제작방법 | 안형수, 이삼녕, 양민, 신기삼, 유영문
  2. [한국] 고전자 이동도 트랜지스터 구조를 가지는 센서의 제조방법 | 박경호, 조주영, 박형호, 고유민, 신찬수, 박원규, 이근우

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