초록

본 발명은 기존 반도체 웨이퍼(이하 '웨이퍼'라 함)를 부유 비접촉 정지용 베르누이 척을 회전시키는 회전기구를 별도로 두지 않고, 베르누이 패드에서 나오는 선회류만을 이용해서 웨이퍼의 부유 정지와 동시에 회전시키면서 세정하는 웨이퍼 세정 장치 및 웨이퍼 세정 방법에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

공기가 공급되는 고정 테이블과, 상기 고정 테이블에 다수 배치 설치되어 상기 공급된 공기가 토출되어 선회류를 형성시키는 베르누이 패드를 포함하는 베르누이 척; 상기 고정 테이블의 가장자리에 설치되어 웨이퍼의 수평방향 유동을 제한하는 돌기; 상기 웨이퍼의 하면 또는 상면에 세정액을 분사시키는 세정액 공급 노즐;을 포함하되, 상기 베르누이 패드에는 시계방향 선회류용 다수의 L패드와 반시계방향 선회류용 다수의 R패드가 배치 설치되되, 상기 다수의 L패드와 다수의 R패드에 공기가 공급되면 상기 웨이퍼가 상기 베르누이 척과 비접촉한 채 부유

공기가 공급되는 고정 테이블과, 상기 고정 테이블에 다수 배치 설치되어 상기 공급된 공기가 토출되어 선회류를 형성시키는 베르누이 패드를 포함하는 베르누이 척; 상기 고정 테이블의 가장자리에 설치되어 웨이퍼의 수평방향 유동을 제한하는 돌기; 상기 웨이퍼의 하면 또는 상면에 세정액을 분사시키는 세정액 공급 노즐;을 포함하되, 상기 베르누이 패드에는 시계방향 선회류용 다수의 L패드와 반시계방향 선회류용 다수의 R패드가 배치 설치되되, 상기 다수의 L패드와 다수의 R패드에 공기가 공급되면 상기 웨이퍼가 상기 베르누이 척과 비접촉한 채 부유된 상태에서 정지되고, 상기 다수의 R패드에 공기의 공급이 차단되면, 상기 다수의 L패드에 의해 상기 웨이퍼가 상기 베르누이 척과 비접촉한 채 부유된 상태에서 시계방향으로 회전되면서 상기 세정액이 분사되는 웨이퍼 세정 장치.