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연합인증

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알루미늄 질화물(ALN) PVD 프로세스를 위한 가스 냉각식 최소 접촉 면적(MCA) 정전 척(ESC) 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/683
  • C23C-014/22
  • C23C-014/50
  • C23C-016/455
  • C23C-016/458
  • C23C-016/46
  • H01J-037/32
  • H01L-021/67
  • H02N-013/00
출원번호 10-2017-7019114 (2017-07-10)
공개번호 10-2017-0094359 (2017-08-17)
등록번호 10-2401492-0000 (2022-05-19)
우선권정보 미국(US) 14/567,161 (2014-12-11)
국제출원번호 PCT/US2015/059065 (2015-11-04)
국제공개번호 WO 2016/093986 (2016-06-16)
번역문제출일자 2017-07-10
DOI http://doi.org/10.8080/1020177019114
발명자 / 주소
  • 웨스트, 브라이언 티. / 미국 ***** 캘리포니아 새너제이 그림스비 드라이브 ****
  • 가젠드라, 마노이 에이. / 인도 ****** 방갈로 비에스케이 * 스테이지 이타마두 라자함사 로드 “프라타마” 브이-메인 #**(**/*)
  • 젬버린감, 순다라잔 / 인도 ****** 랄구디 타밀 나두 트리치 사우스 스트리트 **
출원인 / 주소
  • 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 / 미국 ***** 캘리포니아 산타 클라라 바우어스 애브뉴 ****
대리인 / 주소
  • 특허법인 남앤남
심사청구여부 있음 (2020-10-14)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 개시내용의 실시예들은 정전 척 어셈블리, 프로세싱 챔버, 및 기판의 온도를 유지하는 방법을 포함한다.일 실시예에서, 정전 척, 냉각 플레이트, 및 가스 박스를 포함하는 정전 척 어셈블리가 제공된다.냉각 플레이트는 냉각 플레이트에 형성된 가스 채널을 포함한다.가스 박스는 가스 채널을 통하는 냉각 가스의 유동을 제어하도록 동작가능하다.

대표청구항

정전 척 어셈블리로서,섭씨 378 도 내지 섭씨 445 도의 범위를 포함하는 온도에서 동작하도록 구성된 정전 척;상기 정전 척과 접촉하도록 배치된 냉각 플레이트 ― 상기 냉각 플레이트는 상기 냉각 플레이트에 형성된 가스 채널을 가짐 ―; 및가스 복귀 유입구, 가스 복귀 배출구, 냉각 가스 배출구, 냉각 가스 유입구, 및 열 교환기를 갖는 가스 박스를 포함하며,상기 냉각 가스 배출구는 상기 냉각 플레이트의 상기 가스 채널의 제 1 단부에 커플링되고, 상기 냉각 가스 배출구는 유동 제어 밸브만을 통해서 상기 냉각 가스 유입구에 커플링되

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] FULL-AREA TEMPERATURE CONTROL ELECTROSTATIC CHUCK AND ITS MANUFACTURING METHOD | BIJAY D PALKE
  2. [일본] WAFER PROCESSING APPARATUS | SUGANO SEIICHIRO, EDAMURA MANABU, UDO RYUJIRO, ARAI MASATSUGU, TANAKA JUNICHI, KANAI SABURO, NISHIO RYOJI, TSUBONE TSUNEHIKO, ARAMAKI TORU
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