초록 ▼

간단한 구성으로, 막두께 분포의 편향을 효과적으로 억제할 수 있는 마그네트론 스퍼터링 장치를 제공한다.진공 챔버(1)와, 이 진공 챔버에 착탈 가능한 캐소드 유닛(C)을 구비하고, 캐소드 유닛은, 진공 챔버 내를 향하도록 설치되는 타겟(2)과, 타겟의 스퍼터면과 배향하는 측에 배치되어 스퍼터면측에 누설 자장을 발생시키는 자석 유닛(4)을 가지는 본 발명의 마그네트론 스퍼터링 장치(SM)는, 진공 챔버 내에서 타겟에 대향 배치되는 처리 기판(W)에 대해서 타겟을 스퍼터링하여 성막하는 동안, 타겟 중심을 회전 중심으로 하여 자석 유닛을

간단한 구성으로, 막두께 분포의 편향을 효과적으로 억제할 수 있는 마그네트론 스퍼터링 장치를 제공한다.진공 챔버(1)와, 이 진공 챔버에 착탈 가능한 캐소드 유닛(C)을 구비하고, 캐소드 유닛은, 진공 챔버 내를 향하도록 설치되는 타겟(2)과, 타겟의 스퍼터면과 배향하는 측에 배치되어 스퍼터면측에 누설 자장을 발생시키는 자석 유닛(4)을 가지는 본 발명의 마그네트론 스퍼터링 장치(SM)는, 진공 챔버 내에서 타겟에 대향 배치되는 처리 기판(W)에 대해서 타겟을 스퍼터링하여 성막하는 동안, 타겟 중심을 회전 중심으로 하여 자석 유닛을 회전 구동하는 구동원(44)을 가지며, 처리 기판에 성막했을 때에 생기는 막두께 분포의 편향의 방위에 일치시켜 진공 챔버 또는 캐소드 유닛의 하우징(H)의 외벽에, 진공 챔버 내에 누설 자장을 작용시키는 보조 자석 유닛(5)을 국소적으로 설치한다.

대표청구항 ▼

진공 챔버와, 이 진공 챔버에 착탈 가능한 캐소드 유닛을 구비하고, 캐소드 유닛은, 진공 챔버 내를 향하도록 설치되는 타겟과, 타겟의 스퍼터면과 배향하는 측에 배치되어 스퍼터면측에 누설 자장을 발생시키는 자석 유닛을 가지는 마그네트론 스퍼터링 장치로서, 진공 챔버 내에서 타겟에 대향 배치되는 처리 기판에 대해서 타겟을 스퍼터링하여 성막하는 동안, 타겟 중심을 회전 중심으로 하여 자석 유닛을 회전 구동하는 구동원을 가지는 것에 있어서,상기 처리 기판에 성막했을 때에 생기는 막두께 분포의 편향(deviation)의 방위에 일치시켜 진공

진공 챔버와, 이 진공 챔버에 착탈 가능한 캐소드 유닛을 구비하고, 캐소드 유닛은, 진공 챔버 내를 향하도록 설치되는 타겟과, 타겟의 스퍼터면과 배향하는 측에 배치되어 스퍼터면측에 누설 자장을 발생시키는 자석 유닛을 가지는 마그네트론 스퍼터링 장치로서, 진공 챔버 내에서 타겟에 대향 배치되는 처리 기판에 대해서 타겟을 스퍼터링하여 성막하는 동안, 타겟 중심을 회전 중심으로 하여 자석 유닛을 회전 구동하는 구동원을 가지는 것에 있어서,상기 처리 기판에 성막했을 때에 생기는 막두께 분포의 편향(deviation)의 방위에 일치시켜 진공 챔버 또는 캐소드 유닛의 하우징의 외벽에, 진공 챔버 내에 누설 자장을 작용시키는 보조 자석 유닛을 국소적으로(locally) 설치하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치.