초록 ▼

본 발명의 실시예는 비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서, a)기판에 포토 레지스트(Photo Resist)를 도포하는 단계와, b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계와, c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴을 제작하는 단계와, d) 제2 포토 마스크를 통하여 자

본 발명의 실시예는 비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서, a)기판에 포토 레지스트(Photo Resist)를 도포하는 단계와, b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계와, c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴을 제작하는 단계와, d) 제2 포토 마스크를 통하여 자외선을 조사하여 제1 렌즈 패턴을 2차 노광하는 단계와, e) 2차 노광된 제1 렌즈 패턴을 설정된 시간 및 온도로 가열 및 용해시켜 비구면을 갖는 제2 렌즈 패턴을 형성하는 단계와, f) 제2 렌즈 패턴을 따라 기판을 에칭하여 비 구면을 갖는 마이크로 렌즈를 제조하는 단계 및 g) 마이크로 렌즈를 세정하는 단계를 포함한다.

대표청구항 ▼

비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서,a)기판(110)에 포토 레지스트(Photo Resist)(120)를 도포하는 단계;b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크(131)를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계;c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴(123)을 제작하는 단계;d) 복 수개

비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서,a)기판(110)에 포토 레지스트(Photo Resist)(120)를 도포하는 단계;b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크(131)를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계;c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴(123)을 제작하는 단계;d) 복 수개의 자외선 투과 영역 및 비 투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제2 포토 마스크(132)를 통하여 자외선을 조사하여 제1 렌즈 패턴(123)에 자외선의 반응 영역과 비 반응 영역을 갖도록 2차 노광하는 단계;e) 2차 노광된 제1 렌즈 패턴(123)을 히트 챔버에 수용하여 설정된 시간 및 온도로 가열하여 2차 노광에 의해 반응된 영역과 비 반응된 영역을 용해시켜 서로 다른 곡률을 갖는 제1구면(124a)과 제2구면(124b)으로 이루어진 비구면의 제2 렌즈 패턴(124)을 형성하는 단계;f) 제2 렌즈 패턴(124)을 따라 기판(110)을 에칭하여 비 구면을 갖는 마이크로 렌즈를 제조하는 단계; 및g) 마이크로 렌즈를 세정하는 단계;를 포함하고,e)단계에서 제1구면(124a)은 비 반응 영역에 의해 형성되는 구면(PO1)이고, 제2구면(124b)은 반응 영역에 의해 형성되는 구면(PO2)으로서 히트 챔버의 온도 및 시간 조절을 통하여 곡율이 조절되는 것을 특징으로 하는 비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법.