초록 ▼

본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법에 있어서, 석영 기판에 폴리 실리콘을 증착하는 과정; 상기 증착된 폴리 실리콘의 상단에 감광제를 도포하고, 상기 감광제 상에 형성되는 기공들 중 적어도 두 개의 기공의 크기가 상이하게 되도록, 상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정; 상기 홀 패터닝 이후, 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비를 통해 상기 폴리 실리콘의 적어도 일부에 대하여 건식 식각을 하는 과정; 상기 건식 식각의 완료 이후 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 적어도 일부에

본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법에 있어서, 석영 기판에 폴리 실리콘을 증착하는 과정; 상기 증착된 폴리 실리콘의 상단에 감광제를 도포하고, 상기 감광제 상에 형성되는 기공들 중 적어도 두 개의 기공의 크기가 상이하게 되도록, 상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정; 상기 홀 패터닝 이후, 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비를 통해 상기 폴리 실리콘의 적어도 일부에 대하여 건식 식각을 하는 과정; 상기 건식 식각의 완료 이후 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 적어도 일부에 대하여 습식 식각을 하는 과정; 및 상기 습식 식각의 완료 이후, 상기 석영 기판의 상기 폴리 실리콘을 제거하는 과정을 포함할 수 있다.

대표청구항 ▼

석영 기판에 폴리 실리콘을 증착하는 과정;상기 증착된 폴리 실리콘의 상단에 감광제를 도포하고, 상기 감광제 상에 형성되는 기공들 중 적어도 두 개의 기공의 크기가 상이하고, 상기 기공들 사이의 간격이 동일하게 되도록, 상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정;상기 홀 패터닝 이후, 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비를 이용하여 식각 영역의 지름 조절을 통해 상기 폴리 실리콘의 적어도 일부에 대하여 건식 식각을 하는 과정;상기 건식 식각의 완료 이후 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 일면의 적어도 일부에 대하여 반구

석영 기판에 폴리 실리콘을 증착하는 과정;상기 증착된 폴리 실리콘의 상단에 감광제를 도포하고, 상기 감광제 상에 형성되는 기공들 중 적어도 두 개의 기공의 크기가 상이하고, 상기 기공들 사이의 간격이 동일하게 되도록, 상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정;상기 홀 패터닝 이후, 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비를 이용하여 식각 영역의 지름 조절을 통해 상기 폴리 실리콘의 적어도 일부에 대하여 건식 식각을 하는 과정;상기 건식 식각의 완료 이후 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 일면의 적어도 일부에 대하여 반구식으로 습식 식각을 하는 과정; 및상기 습식 식각의 완료 이후, 상기 석영 기판의 상기 폴리 실리콘을 제거하는 과정을 포함하는,마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법.