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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0010744 (2018-01-29) | |
등록번호 | 10-2007438-0000 (2019-07-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180010744 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-01-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 실시예는 비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서, a)기판에 포토 레지스트(Photo Resist)를 도포하는 단계와, b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계와, c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴을 제작하는 단계와, d) 제2 포토 마스크를 통하여 자
비구면 마이크로 렌즈의 제조 방법에 있어서,a)기판(110)에 포토 레지스트(Photo Resist)(120)를 도포하는 단계;b)복 수개의 자외선 투과 영역 및 비투과 영역을 갖는 마스크 패턴이 형성된 제1 포토 마스크(131)를 통하여 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에 자외선을 조사하여 1차 노광하는 단계;c) 1차 노광된 포토 레지스트(Photo Resist)(120)에서 자외선에 의해 반응된 반응 영역들을 제거하고, 비 반응 영역들을 잔류시키도록 현상하여 제1 렌즈 패턴(123)을 제작하는 단계;d) 복 수개
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