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[한국특허] 세정 조성물, 세정 장치, 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-003/43
  • C11D-001/12
  • C11D-011/00
  • H01L-021/66
  • H01L-021/67
출원번호 10-2018-0015263 (2018-02-07)
공개번호 10-2019-0095814 (2019-08-16)
등록번호 10-2464636-0000 (2022-11-03)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180015263
발명자 / 주소
  • 박미현 / 경기도 성남시 분당구 판교원로 ***, ***동 ****호 (판교동, 판교원마을*단지아파트)
  • 오정민 / 인천광역시 연수구 송도과학로**번길 *** ***-****
  • 김영후 / 경기도 용인시 수지구 광교마을로 **, ****동 ****호 (상현동, 광교마을**단지)
  • 이효산 / 경기도 화성시 동탄반석로 ** 한화우림 아파트 ***동 ****호
  • 김태근 / 충남 천안시 서북구 직산읍 *산단 *길 ** 세메스
  • 연예림 / 경기도 화성시 효행로 ****
  • 오해림 / 충남 천안시 서북구 직산읍 *산단 *길 ** 세메스
  • 정지수 / 경기도 화성시 효행로 ****
  • 조민희 / 경기도 화성시 효행로 ****
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
  • 세메스 주식회사 / 충청남도 천안시 서북구 직산읍 *산단*길 ** ( )
대리인 / 주소
  • 특허법인가산
심사청구여부 있음 (2020-12-23)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 유기물 세정 조성물, 세정 장치, 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법을 개시한다. 그의 조성물은 계면 활성제, 탈이온수, 및 유기 용매를 포함한다. 상기 계면 활성제는 0.28M 내지 0.39의 농도(0.01 내지 0.017 몰 분율)를 갖고, 상기 유기 용매는 7.1M 내지 7.5M의 농도(0.27 내지 0.35 몰 분율)를 가질 수 있다.

대표청구항

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  1. [한국] 기판으로부터 오염물질을 제거하는 방법 및 세척 용액을만드는 방법 | 프리어 에릭 엠, 래브킨 마이클, 드 라리오스 존 엠, 코로리크 미하일, 미카리켄코 카트리나, 리데커 프레드 씨
  2. [한국] 반도체 장치 제조를 위한 세정 방법 | 초유 보 웨이, 첸 카오 쳉, 예 밍 흐시, 유 성 흐선, 장 ? 밍
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