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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0026084 (2018-03-06) | |
공개번호 | 10-2019-0105701 (2019-09-18) | |
등록번호 | 10-2242969-0000 (2021-04-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180026084 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-10-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 피라졸론 또는 피라졸론 유도체를 포함하는 세정액 조성물에 관한 것으로서, 구체적으로는 금속의 화학적 기계적 평탄화(CMP) 공정 등에서 발생할 수 있는 금속 산화물과 금속 연마입자를 세정할 수 있는 세정액 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 세정액 조성물에 의하면, 구리 표면에 선택적 흡착이 가능하여 구리의 식각은 효과적으로 막을 수 있고, 구리산화막에는 흡착하지 않아 식각력이 유지되므로 구리의 부식방지효과 및 구리 산화막 제거력이 높은 세정액을 제공할 수 있다.
피라졸론 또는 피라졸론 유도체;4차 암모늄 하이드록사이드; 및아미노산 또는 아미노산 염을 포함하는 반도체 기판용 세정액 조성물로서,상기 피라졸론 또는 피라졸론 유도체는 피라졸론 구조 외의 작용기에 아민기를 포함하지 않는 구조를 가지고,상기 아미노산이 탄소수 2 내지 6, 질소수 1 및 산소수 2 내지 6을 가지고,화학기계적 연마 후 금속산화물 세정용인, 반도체 기판용 세정액 조성물.
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