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연합인증

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이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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CMP 후 세정액 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-001/825
  • C11D-003/00
  • C11D-003/20
출원번호 10-2021-0078782 (2021-06-17)
공개번호 10-2022-0168821 (2022-12-26)
등록번호 10-2518902-0000 (2023-04-03)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210078782
발명자 / 주소
  • 정가영 / 경기도 안성시 아양로 **, ***동 ****호(아양동, 안성서희스타힐스NHF)
  • 정경진 / 경기도 화성시 병점*로 ***, ***동 ****호(병점동, 안화동마을주공*단지)
출원인 / 주소
  • 주식회사 케이씨텍 / 경기도 안성시 미양면 제*공단*길 **, *공장
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2021-06-17)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 CMP 후 세정액 조성물에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 CMP 후 세정액 조성물은, 비이온성 작용기 및 음이온성 작용기를 포함하는 계면활성제 및 수계 용매를 포함하는 것일 수 있다.본 발명에 따른 CMP 후 세정액 조성물을 이용함으로써, 반도체 웨이퍼의 소수성 막의 표면 결함을 효과적으로 제거할 수 있다.

대표청구항 ▼

비이온성 작용기 및 음이온성 작용기를 포함하는 계면활성제; 및수계 용매;를 포함하고,상기 계면활성제는, 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물인 것인,CMP 후 세정액 조성물:[화학식 1](이 때, R1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C5 내지 C30의 사이클로 알케닐기,

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 반도체 디바이스용 기판 세정액, 및 반도체 디바이스용 기판의 제조 방법 | 가와세 야스히로, 이케모토 마코토, 이토우 아츠시, 이시카와 마코토
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  2. [일본] DETERGENT FOR ELECTRONIC MATERIAL | TERAKAWA YASUKO, SUZUKI KAZUMICHI, SATO SHOHEI
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