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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0051448 (2018-05-03) | |
공개번호 | 10-2019-0127185 (2019-11-13) | |
등록번호 | 10-2324275-0000 (2021-11-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180051448 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-05-31) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 실리콘 질화막 에칭 조성물은 인산 화합물; 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 7-8의 고리형 탄화수소; 및 물을 포함한다. 상기 실리콘 질화막 에칭 조성물은 실리콘산화막에 대한 실리콘 질화막의 선택비가 높고, 실리콘 화합물의 석출을 억제할 수 있다.
인산 화합물; 트로폴론(tropolone) 또는 이소프로필기로 치환된 트로폴론; 및 물;을 포함하는 것인, 실리콘 질화막 에칭 조성물.
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