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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0063342 (2018-06-01) | |
공개번호 | 10-2018-0137406 (2018-12-27) | |
등록번호 | 10-2649773-0000 (2024-03-15) | |
우선권정보 | 미국(US) 15/625,075 (2017-06-16);미국(US) 15/680,730 (2017-08-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180063342 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-02-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은, 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 30 wt.%의, 양이온성 질소 원자를 함유하는 복수의 세장형, 굽은 또는 구상의 콜로이드성 실리카 입자의 분산액, 및 0.001 내지 0.5 wt.%, 바람직하게는 10 내지 500 ppm의 디알릴디메틸암모늄 염, 예컨대 디알릴디메틸암모늄 할라이드의 양이온성 코폴리머를 포함하는, 수성 CMP 연마 조성물을 제공하며, 여기서, 상기 조성물은 1 내지 4.5의 pH를 갖는다. 바람직하게는, 디알릴디메틸암모늄 염의 양이온성 코폴리머는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DADMAC)와 이산
수성 화학 기계적 평탄화 연마 조성물로서,물;양이온성 질소 원자를 함유하는 복수의 세장형, 굽은 또는 구상의 콜로이드성 실리카 입자의 분산물;황산 및 질산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 산; 및10 내지 20 ppm의 디알릴디메틸암모늄 염의 양이온성 코폴리머;로 이루어지며,상기 디알릴디메틸암모늄 염의 양이온성 코폴리머가 디알릴디메틸암모늄 클로라이드와 이산화황의 코폴리머로 이루어지고,상기 조성물은 1 내지 4.5의 pH를 가지며, 또한 상기 세장형, 굽은 또는 구상의 콜로이드성 실리카 입자의 분산물의 양은 0.5 내지 30 wt.%
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