초록 ▼

얕은 트렌치 분리(STI) 화학적 기계적 평탄화(CMP) 연마 조성물, 사용 방법 및 시스템이 이에 따라 제공된다. CMP 연마 조성물은 세리아-코팅된 실리카와 같은 세리아 코팅된 무기 산화물 입자의 마모제; 및 조정 가능한 산화물 필름 제거율 및 조정 가능한 SiN 필름 제거율; 낮은 산화물 트렌치 디싱, 및 높은 산화물:SiN 선택도를 제공하기 위한 이중 화학 첨가제를 포함한다. 이중 화학 첨가제는 (1) 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드(EO-PO) 기, 및 동일한 분자 상에 치환된 에틸렌 디아민 기 중 적어도 하나; 및

얕은 트렌치 분리(STI) 화학적 기계적 평탄화(CMP) 연마 조성물, 사용 방법 및 시스템이 이에 따라 제공된다. CMP 연마 조성물은 세리아-코팅된 실리카와 같은 세리아 코팅된 무기 산화물 입자의 마모제; 및 조정 가능한 산화물 필름 제거율 및 조정 가능한 SiN 필름 제거율; 낮은 산화물 트렌치 디싱, 및 높은 산화물:SiN 선택도를 제공하기 위한 이중 화학 첨가제를 포함한다. 이중 화학 첨가제는 (1) 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드(EO-PO) 기, 및 동일한 분자 상에 치환된 에틸렌 디아민 기 중 적어도 하나; 및 (2) 적어도 2 개, 바람직하게는 적어도 4 개의 하이드록실 작용기를 갖는 적어도 하나의 비이온성 유기 분자를 중 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 실리콘-함유 화합물을 포함한다.

대표청구항 ▼

화학적 기계적 연마 조성물로서,적어도 하나의 세리아-코팅된 무기 산화물 입자;적어도 하나의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드(EO-PO) 기, 및 적어도 하나의 치환된 에틸렌 디아민 기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 실리콘-함유 화합물;적어도 2 개의 하이드록실 작용기를 갖는 적어도 하나의 비이온성 유기 분자;용매; 선택적으로, 살생물제; 및 pH 조절제를 포함하고,상기 조성물은 2 내지 12, 3 내지 10, 4 내지 9, 및 5 내지 7로 이루어진 군으로부터 선택된 pH를 갖고;적어도 하나

화학적 기계적 연마 조성물로서,적어도 하나의 세리아-코팅된 무기 산화물 입자;적어도 하나의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드(EO-PO) 기, 및 적어도 하나의 치환된 에틸렌 디아민 기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 실리콘-함유 화합물;적어도 2 개의 하이드록실 작용기를 갖는 적어도 하나의 비이온성 유기 분자;용매; 선택적으로, 살생물제; 및 pH 조절제를 포함하고,상기 조성물은 2 내지 12, 3 내지 10, 4 내지 9, 및 5 내지 7로 이루어진 군으로부터 선택된 pH를 갖고;적어도 하나의 실리콘-함유 화합물은 하기 (1), (2), (3) 및 (4)를 포함하는 군으로부터 선택된 일반 분자 구조를 갖는, 화학적 기계적 연마 조성물:(1)(여기서,a 및 a'는 각각 독립적으로 0 내지 50, 0 내지 40, 0 내지 30, 0 내지 20, 0 내지 10, 또는 0 내지 5의 범위이고; 여기서, a 및 a' 중 적어도 하나는 0이 아니고;b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 50, 0 내지 40, 0 내지 30, 0 내지 20, 0 내지 10, 또는 0 내지 5의 범위이고; 여기서, b 및 c 중 적어도 하나는 0이 아니고;n 및 m은 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 독립적으로 1 내지 12, 1 내지 8, 1 내지 5, 또는 2 내지 4의 범위이고;R' 및 R"는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 독립적으로 수소; -(CH2)pCH3(p는 1 내지 12 또는 2 내지 5의 범위임); -NH2; -NH(CH2)q-NH2(q는 1 내지 12 또는 2 내지 5의 범위임); 에틸렌 옥사이드(EO) 및 프로필렌 옥사이드(PO) 반복 기 -(EO)e-(PO)d-OH(d 및 e는 각각 독립적으로 1 내지 50, 1 내지 40, 1 내지 30, 1 내지 20, 1 내지 10, 및 1 내지 5로 이루어진 군으로부터 선택됨); -COOH; -COOM; -COOR1; -R1COOH; -R1COOM; -R1COOR2; -SO3H; -SO3M; -R1SO3H; 포스폰산; 나트륨, 칼륨 또는 암모늄 염으로부터 선택된 포스페이트 염; 벤질; 디-벤질로 이루어진 군으로부터 선택되고; 여기서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -(CH2)m(m은 1 내지 12의 범위임), 및 -(C6H4)n(n은 1 내지 4의 범위임)로 이루어진 군으로부터 선택되고; M은 나트륨, 칼륨 및 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨); (2)(여기서,a는 0 내지 50, 0 내지 40, 0 내지 30, 0 내지 20, 0 내지 10, 또는 0 내지 5로부터 선택되고; e 및 d는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 독립적으로 1 내지 12의 범위임);(3)(여기서, R' 및 R"는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 독립적으로 수소; -(CH2)pCH3(p는 1 내지 12 또는 2 내지 5의 범위임); -NH2; -NH(CH2)q-NH2(q는 1 내지 12 또는 2 내지 5의 범위임); 에틸렌 옥사이드(EO) 및 프로필렌 옥사이드(PO) 반복 기 -(EO)e-(PO)d-OH(d 및 e는 각각 독립적으로 1 내지 50, 1 내지 40, 1 내지 30, 1 내지 20, 1 내지 10, 및 1 내지 5로 이루어진 군으로부터 선택됨); -COOH; -COOM; -COOR1; -R1COOH; -R1COOM; -R1COOR2; -SO3H; -SO3M; -R1SO3H; 포스폰산; 나트륨, 칼륨 또는 암모늄 염으로부터 선택된 포스페이트 염; 벤질; 디-벤질로 이루어진 군으로부터 선택되고; 여기서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -(CH2)m(m은 1 내지 12의 범위임), 및 -(C6H4)n(n은 1 내지 4의 범위임)로 이루어진 군으로부터 선택되고; M은 나트륨, 칼륨 및 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택되고;x, y, 및 z는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 독립적으로 1 내지 12로부터 선택되고; n-1은 2 내지 13임); 및(4) (1), (2) 및 (3)의 조합.