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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-7023858 (2022-07-11) | |
공개번호 | 10-2022-0113497 (2022-08-12) | |
우선권정보 | 미국(US) 16/711,818 (2019-12-12);대만(TW) 109135359 (2020-10-13) | |
국제출원번호 | PCT/US2020/056673 (2020-10-21) | |
국제공개번호 | WO 2021/118694 (2021-06-17) | |
번역문제출일자 | 2022-07-11 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020227023858 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 연마제로서의 세리아 코팅된 실리카 입자와 같은 세리아 무기 산화물 입자와 폴리(메타크릴산), 이의 유도체, 이의 염, 또는 이들의 조합의 산화물 트렌치 디싱 감소 첨가제와의 고유한 조합의 사용을 통해 높고 조정 가능한 산화실리콘 제거 속도, 낮은 질화실리콘 제거 속도, 및 조정 가능한 SiO2:SiN의 높은 선택비를 제공하는 것 외에도 산화물 트렌치 디싱(dishing)을 현저히 감소시키고, 과잉 연마 윈도우 안정성을 향상시키는 STI CMP 연마 조성물, 방법 및 시스템을 개시한다.
화학 기계적 연마 조성물로서,세리아 코팅된 무기 산화물 입자;유기 중합체 산, 이의 에스테르 유도체, 이의 염 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 산화물 트렌칭 디싱 감소제;수계 용매; 및선택적으로살생물제; 및pH 조절제를 포함하고;여기서,조성물의 pH는 3 내지 10이고;산화물 트렌치 디싱 감소제는 아래에 나타낸 바와 같은 일반적인 분자 구조를 갖는 화학 기계적 연마 조성물:상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 및 알킬 기 CmH2m+1로 이루어진 군으로부터 선택되고, m은 1 내지 4이고; R3은 알킬
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