선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2018-0103333 (2018-08-31) | |
공개번호 | 10-2020-0025651 (2020-03-10) | |
등록번호 | 10-2465602-0000 (2022-11-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180103333 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2021-05-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 신너 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는 RRC(Reduce Resist Coating), EBR(Edge Bead Removed) 공정 등에 적용하여 포토레지스트 사용량을 줄일 수 있으며, 웨이퍼 에지 또는 이면에 불필요한 포토레지스트를 제거할 수 있는 신너 조성물에 관한 것이다.
C1-C10알킬 C1-C10알콕시 프로피오네이트, 프로필렌글리콜 C1-C10알킬에테르 및 프로필렌글리콜 C1-C10알킬에테르 아세테이트를 포함하는 신너 조성물.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.