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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0144584 (2018-11-21) | |
공개번호 | 10-2020-0059624 (2020-05-29) | |
등록번호 | 10-2160170-0000 (2020-09-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180144584 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-11-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
실시예는 스테이지(stage) 상에 웨이퍼를 배치하고 회전시키는 단계; 상기 회전 중인 웨이퍼의 표면의 중앙의 제1 영역, 상기 제1 영역 및 하기의 제3 영역 사이의 제2 영역, 및 가장 자리의 제3 영역에 레이저를 조사하는 단계; 및 상기 웨이퍼의 제1 영역 내지 제3 영역에서 반사되는 레이저를 측정하는 단계를 포함하고, 상기 제1 영역에 조사되는 레이저의 제1 출력보다 상기 제2 영역에 조사되는 레이저의 제2 출력이 크고, 상기 제2 영역에 조사되는 레이저의 제2 출력보다 상기 제3 영역에 조사되는 레이저의 제3 출력이 큰 웨
스테이지(stage) 상에 웨이퍼를 배치하고 회전시키는 단계;상기 회전 중인 웨이퍼의 표면의 중앙의 제1 영역, 상기 제1 영역 및 하기의 제3 영역 사이의 제2 영역, 및 가장 자리의 제3 영역에 레이저를 조사하는 단계; 및상기 웨이퍼의 제1 영역 내지 제3 영역에서 반사되는 레이저를 측정하는 단계를 포함하고,상기 제1 영역에 조사되는 레이저의 제1 출력보다 상기 제2 영역에 조사되는 레이저의 제2 출력이 크고, 상기 제2 영역에 조사되는 레이저의 제2 출력보다 상기 제3 영역에 조사되는 레이저의 제3 출력이 크고,상기 웨이퍼의
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