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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0145220 (2018-11-22) | |
공개번호 | 10-2020-0059899 (2020-05-29) | |
등록번호 | 10-2651367-0000 (2024-03-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180145220 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 적어도 하나의 영역을 둘러싼 냉매 유도관; 냉매 - 슈도 극저온(pseudo cryogenic)에 대응하는 기화 온도를 가짐 - 를 상기 냉매 유도관으로 공급하기 위한 냉매 공급 장치; 상기 적어도 하나의 영역에 배치되는 복수의 랙(rack); 및 상기 복수의 랙을 각각 회전시키기 위한 복수의 회전 장치를 포함하는 데이터 센터를 제공한다.
적어도 하나의 영역을 둘러싼 냉매 유도관;냉매 - 슈도 극저온(pseudo cryogenic)에 대응하는 기화 온도를 가짐 - 를 상기 냉매 유도관으로 공급하기 위한 냉매 공급 장치;상기 적어도 하나의 영역에 배치되는 복수의 랙(rack);상기 복수의 랙을 각각 회전시키기 위한 복수의 회전 장치; 및적어도 하나의 파라미터 정보 - 상기 복수의 랙 각각의 내부 온도에 대응하는 복수의 온도 정보와 상기 복수의 랙의 시간대별 사용량에 대응하는 적어도 하나의 프로파일 정보 중 적어도 하나의 정보를 포함함 - 에 기초하여 상기 복수의 회전
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