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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0165453 (2018-12-19) | |
공개번호 | 10-2018-0137471 (2018-12-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180165453 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
기판처리 장치가 개시된다.본 발명에 따른 기판처리 장치는, 기판 상의 물질을 기화시키거나 건조시키는 기판처리 장치로서, 기판처리 공간을 제공하는 챔버(101)를 포함하는 본체(100) 및 챔버(101) 내부를 가열하는 발열부(200)를 포함하며, 본체(100)의 하부(BC)는 하부(BC) 상단에서 하부(BC) 하단으로 갈수록 평단면적의 크기가 작아지는 형상을 가지는 것을 특징으로 한다.
기판 상의 물질을 기화시키거나 건조시키는 기판처리 장치로서,기판처리 공간을 제공하는 챔버를 포함하는 본체; 및상기 챔버 내부를 가열하는 발열부를 포함하며상기 본체의 하부는 하부 상단에서 하부 하단으로 갈수록 평단면적의 크기가 작아지는 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
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