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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0015198 (2019-02-08) | |
공개번호 | 10-2019-0031210 (2019-03-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190015198 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
제품을 사출 성형하여 형성하는 동시에 제품의 표면에 인쇄에 의해 형성된 패턴(pattern)이 나타나도록 하는 IMD(in mold decoration) 작업에 사용되는 IMD 필름, 및 IMD 필름의 제조 방법이 개시된다. 개시된 IMD 필름은, 베이스 이형 필름(base release film), 베이스 이형 필름에 적층되는 것으로, 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태이나 자외선 조사(照射)에 의해 경화되는 무기재료 코팅층(coating layer), 무기재료 코팅층에 적층되는 것으로, 패턴이 인쇄에 의해 형성된 인쇄층, 및 인
제품을 사출 성형하여 형성하는 동시에 상기 제품의 표면에 인쇄에 의해 형성된 패턴(pattern)이 나타나도록 하는 IMD(in mold decoration) 작업에 사용되는 IMD 필름으로서, 베이스 이형 필름(base release film); 상기 베이스 이형 필름에 적층되는 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태의 층으로, 상기 제품을 사출 성형하고 상기 제품의 표면에 자외선을 조사(照射)함에 의해 경화되는 무기재료 코팅층(coating layer); 상기 무기재료 코팅층에 적층되는 것으로, 상기 패턴이 인쇄에 의해 형성된 인쇄
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