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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0107400 (2015-07-29) | |
공개번호 | 10-2017-0015625 (2017-02-09) | |
등록번호 | 10-1816298-0000 (2018-01-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150107400 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
베이스 이형 필름(base release film), 및 베이스 이형 필름에 적층되고, 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태이의 무기재료 코팅층(coating layer), 및 무기재료 코팅층에 적층된 인쇄층을 구비한 IMD 필름을 이용한 사출 성형 방법이 개시된다. 개시된 사출 성형 방법은, IMD 필름의 일 부분을 사출 지점으로 특정하고, 사출 지점의 무기재료 코팅층을 경화시키는 사출 지점 경화 단계, 사출 성형 금형의 캐비티(cavity)를 한정하는 면에 베이스 이형 필름이 접촉 대면(對面)하도록, IMD 필름을 사출 성형 금형
베이스 이형 필름(base release film), 및 상기 베이스 이형 필름에 적층되고, 실록산계 수지 또는 실란계 수지를 가지며 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태의 무기재료 코팅층(coating layer), 및 상기 무기재료 코팅층에 적층된 인쇄층을 구비한 IMD 필름(in mold decoration film)을 준비하는 IMD 필름 준비 단계; 상기 IMD 필름의 일 부분을 사출 지점으로 특정하고, 상기 사출 지점의 무기재료 코팅층을 경화시킴과 동시에, 상기 사출 지점 외의 무기재료 코팅층은 졸 또는 겔 상태가 유지되도
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