초록 ▼

본 발명에 따른 RF필터는, 플라즈마챔버 측 또는 히터 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 직렬 LC공진회로를 포함하는 HF대역 필터와, AC전력제어공급부 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 입력 병렬캐패시터를 포함하는 MF대역 또는 LF대역 필터를 구비하는 것으로, 단일주파수의 전력 및 다중주파수의 전력을 사용하는 공정에서 RF필터에 형성되는 병렬 LC공진회로와 이에 병렬로 연결되는

본 발명에 따른 RF필터는, 플라즈마챔버 측 또는 히터 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 직렬 LC공진회로를 포함하는 HF대역 필터와, AC전력제어공급부 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 입력 병렬캐패시터를 포함하는 MF대역 또는 LF대역 필터를 구비하는 것으로, 단일주파수의 전력 및 다중주파수의 전력을 사용하는 공정에서 RF필터에 형성되는 병렬 LC공진회로와 이에 병렬로 연결되는 직렬 LC공진회로에 의하여 개별주파수 전력차단은 물론 개별주파수에 대한 임피던스 제어가 가능하며, 가변캐패시터 소자를 통한 보상으로 인하여 설비간의 편차나 RF필터 자체의 임피던스 편차를 최소화할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

단일 또는 다중 주파수 전력으로 플라즈마를 생성하여 공정을 수행하는 플라즈마챔버에서, 플라즈마챔버의 웨이퍼지지 어셈블리에 구비되는 히터와, 플라즈마챔버의 웨이퍼지지 어셈블리에 구비되는 히터에 AC전력을 인가하기 위한 AC전력제어공급부와, 상기 히터와 AC전력제어공급부의 사이에 두 개의 연결선로에 의하여 연결되어 형성되는 플라즈마 공정을 위한 RF필터에 있어서, 상기 RF필터는, 플라즈마챔버 측 또는 히터 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 직렬 LC공진회로를

단일 또는 다중 주파수 전력으로 플라즈마를 생성하여 공정을 수행하는 플라즈마챔버에서, 플라즈마챔버의 웨이퍼지지 어셈블리에 구비되는 히터와, 플라즈마챔버의 웨이퍼지지 어셈블리에 구비되는 히터에 AC전력을 인가하기 위한 AC전력제어공급부와, 상기 히터와 AC전력제어공급부의 사이에 두 개의 연결선로에 의하여 연결되어 형성되는 플라즈마 공정을 위한 RF필터에 있어서, 상기 RF필터는, 플라즈마챔버 측 또는 히터 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 직렬 LC공진회로를 포함하는 HF대역 필터와, AC전력제어공급부 측으로 연결되는 두 개의 연결선로 각각으로 병렬 LC공진회로와 상기 병렬 LC공진회로 각각으로 병렬로 연결되는 입력 병렬캐패시터를 포함하는 MF대역 또는 LF대역 필터를 포함하여 이루어지며,상기 HF대역 필터의 병렬 LC공진회로는; 상기 히터 측으로 연결되는 연결선로에 직렬로 연결되는 직렬 인덕터와 상기 직렬 인덕터에 병렬로 연결되어 형성되는 가변캐패시터 소자로 이루어지거나, 또는 상기 히터 측으로 연결되는 연결선로에 직렬로 연결되는 직렬 인덕터와, 일측 단자는 연결선로에 병렬로 연결되고, 타측 단자는 RF접지에 연결되도록 형성되는 가변캐패시터 소자로 이루어지며,상기 HF대역 필터의 직렬 LC공진회로는; 일측 단자는 상기 HF대역 필터의 병렬 LC공진회로에 병렬로 연결되며, 타측 단자는 RF접지에 연결되어 형성되며, 연결선로에 병렬로 연결되는 직렬 캐패시터와 상기 직렬 캐패시터에 직렬로 연결되는 직렬 인덕터가 연결되어 이루어지며,상기 MF대역 또는 LF대역 필터의 병렬 LC공진회로는; 자성물질 코어(Core)에 도선을 감아서 형성되는 입력 인덕터와, 상기 입력 인덕터에 병렬로 연결되는 가변캐패시터 소자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정을 위한 RF필터.