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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0036878 (2019-03-29) | |
공개번호 | 10-2019-0114895 (2019-10-10) | |
등록번호 | 10-2188415-0000 (2020-12-02) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2018-069081 (2018-03-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190036878 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-03-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
스퍼터링에 수반되는 노쥴의 발생을 양호하게 억제할 수 있는 스퍼터링 타겟을 제공한다.In, Zn 및 O로 이루어지고, Zn과 In이 원자 농도(at%)비로 0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.22를 충족하고, 상대 밀도가 98% 이상이고, 포어가 2개/10,500 μ㎡ 이하이고, 두께방향으로 중심에서의 체적 저항률이 2 mΩ·㎝ 이하인 스퍼터링 타겟.
In, Zn 및 O로 이루어지고, Zn과 In이 원자 농도(at%)비로 0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.22를 충족하고, 상대 밀도가 98% 이상이고, 최대 지름이 50 nm 내지 300 ㎚인 포어가 2개/10,500 μ㎡ 이하이고, 두께방향으로 중심에서의 체적 저항률이 2 mΩ·㎝ 이하인 스퍼터링 타겟.
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