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연합인증

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이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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스퍼터링 타겟 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/34
  • C04B-035/453
  • C23C-014/08
출원번호 10-2019-0036878 (2019-03-29)
공개번호 10-2019-0114895 (2019-10-10)
등록번호 10-2188415-0000 (2020-12-02)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2018-069081 (2018-03-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190036878
발명자 / 주소
  • 카케노 타카시 / 일본국 ******* 이바라키현 기타이바라기시 하나카와쵸 우스바 ***-* 제이엑스금속주식회사 이소하라고죠 내
  • 쿠게 토시히로 / 일본국 ******* 이바라키현 기타이바라기시 하나카와쵸 우스바 ***-* 제이엑스금속주식회사 이소하라고죠 내
출원인 / 주소
  • 제이엑스금속주식회사 / 일본국 도쿄도 미나토쿠 도라노몬 *초메 **방 *고
대리인 / 주소
  • 특허법인(유한) 대아
심사청구여부 있음 (2019-03-29)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

스퍼터링에 수반되는 노쥴의 발생을 양호하게 억제할 수 있는 스퍼터링 타겟을 제공한다.In, Zn 및 O로 이루어지고, Zn과 In이 원자 농도(at%)비로 0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.22를 충족하고, 상대 밀도가 98% 이상이고, 포어가 2개/10,500 μ㎡ 이하이고, 두께방향으로 중심에서의 체적 저항률이 2 mΩ·㎝ 이하인 스퍼터링 타겟.

대표청구항

In, Zn 및 O로 이루어지고, Zn과 In이 원자 농도(at%)비로 0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.22를 충족하고, 상대 밀도가 98% 이상이고, 최대 지름이 50 nm 내지 300 ㎚인 포어가 2개/10,500 μ㎡ 이하이고, 두께방향으로 중심에서의 체적 저항률이 2 mΩ·㎝ 이하인 스퍼터링 타겟.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 산화인듐-산화아연계 (IZO) 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 | 가케노 다카시
  2. [한국] IZO 소결체 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 | 가케노 다카시, 야마구치 요헤이, 엔도 요스케
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