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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0044739 (2019-04-17) | |
공개번호 | 10-2020-0122021 (2020-10-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190044739 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 멀티 빔 가공장치 및 멀티 빔 가공방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 멀티 빔 가공의 정밀도 및 가공 지점 간의 균일도를 향상시키는 멀티 빔 가공장치 및 멀티 빔 가공방법에 관한 것이다.본 발명의 일실시예에 따른 멀티 빔 가공장치는 레이저 빔을 발생시켜 출력하는 레이저빔 발진부; 출력된 레이저 빔을 복수의 단위 빔으로 분할하여 멀티 빔을 형성하는 멀티빔 형성부; 매트릭스 형태로 배열되는 복수의 단위 미러를 포함하며, 상기 복수의 단위 미러 각각의 반사 각도를 조절하여 입사되는 멀티 빔의 적어도 일부를 피가공물로 전달하
레이저 빔을 발생시켜 출력하는 레이저빔 발진부;출력된 레이저 빔을 복수의 단위 빔으로 분할하여 멀티 빔을 형성하는 멀티빔 형성부;매트릭스 형태로 배열되는 복수의 단위 미러를 포함하며, 상기 복수의 단위 미러 각각의 반사 각도를 조절하여 입사되는 멀티 빔의 적어도 일부를 피가공물로 전달하는 제1 광 경로 또는 상기 제1 광 경로와 상이한 제2 광 경로로 선택적으로 반사시키는 디지털 미러 어레이부;를 포함하고,상기 복수의 단위 미러 각각은 상기 디지털 미러 어레이부에 입사되는 복수의 단위 빔 각각의 크기보다 작은 멀티 빔 가공장치.
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