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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0147135 (2019-11-15) | |
공개번호 | 10-2021-0059548 (2021-05-25) | |
등록번호 | 10-2264958-0000 (2021-06-09) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190147135 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-11-15) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명에 따른 저온진공침탄방법은, 대상금속을 전처리용액에 침지하여 전처리를 수행하는 (a)단계, 상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 상기 반응챔버 내의 온도를 기 설정된 온도범위로 승온시키는 (b)단계 및 상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 반응가스를 주입하여 저온진공침탄공정을 수행하는 (c)단계를 포함하며, 상기 전처리용액은, 상기 전처리용액의 100% 부피에 대하여, 질산(NHO3) 30% 내지 60%, 불산(HF) 20% 내지 30% 및 증류수 20% 내지 30%를 포함한다.
스테인리스 316L강을 전처리하기 위한 전처리용액의 100% 부피에 대하여,질산(NHO3) 30% 내지 60%;불산(HF) 20% 내지 35%; 및증류수 20% 내지 35%;를 포함하되,상기 질산은 60%농도의 수용액이고,상기 불산은 55%농도의 수용액인 저온진공침탄용 전처리용액.
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