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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-7000993 (2019-01-10) | |
공개번호 | 10-2019-0016111 (2019-02-15) | |
등록번호 | 10-2140598-0000 (2020-07-28) | |
국제출원번호 | PCT/EP2016/066551 (2016-07-12) | |
국제공개번호 | WO 2018/010770 (2018-01-18) | |
번역문제출일자 | 2019-01-10 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020197000993 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-01-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 개시내용의 일 양상에 따르면, 양측 스퍼터 증착을 위해 구성된 적어도 하나의 전극 어셈블리(120)를 갖는 스퍼터 증착 소스(100)가 제공된다.전극 어셈블리(120)는: 증착될 타겟 재료를 제공하기 위한 캐소드(125) ― 캐소드는 제1 증착 측(10)에 제1 플라즈마(131)를 생성하도록 그리고 제1 증착 측(10)에 대향하는 제2 증착 측(11)에 제2 플라즈마(141)를 생성하도록 구성됨 ―; 및 제1 플라즈마에 영향을 미치기 위해 제1 증착 측(10)에 배열된 적어도 하나의 제1 애노드(132) 및 제2 플라즈마에 영향
양측 스퍼터 증착(two-side sputter deposition)을 위해 구성된 적어도 하나의 전극 어셈블리(120)를 포함하는 스퍼터 증착 소스(100, 200, 300, 400, 500, 600, 700)로서, 상기 적어도 하나의 전극 어셈블리(120)는, 증착될 타겟 재료를 제공하기 위한 캐소드(125) ― 상기 캐소드는 제1 증착 측(deposition side)(10)에 제1 플라즈마(131)를 생성하도록 그리고 상기 제1 증착 측(10)에 대향하는 제2 증착 측(11)에 제2 플라즈마(141)를 생성하도록 구성되며,
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