초록 ▼

본 개시내용의 구현들은 소결 또는 플라즈마 스프레이 정전 척을 개장하는 방법에 관한 것이다.처음에, 베이스 표면을 노출시키기 위해, 사용된 정전 척 바디의 일부분이 제거된다.그 다음, 서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스를 사용하여 베이스 표면 상에 새로운 유전체 재료의 층이 증착된다.서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스는 나노 크기의 유전체 재료의 서스펜션 슬러리를 드롭릿들의 스트림으로 분무하고, 그 다음, 부분 용융 드롭들을 형성하기 위해 드롭릿들의 스트림이 플라즈마 방전에 분사된다.베이스 표면 상에 유전체 재료의 층

본 개시내용의 구현들은 소결 또는 플라즈마 스프레이 정전 척을 개장하는 방법에 관한 것이다.처음에, 베이스 표면을 노출시키기 위해, 사용된 정전 척 바디의 일부분이 제거된다.그 다음, 서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스를 사용하여 베이스 표면 상에 새로운 유전체 재료의 층이 증착된다.서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스는 나노 크기의 유전체 재료의 서스펜션 슬러리를 드롭릿들의 스트림으로 분무하고, 그 다음, 부분 용융 드롭들을 형성하기 위해 드롭릿들의 스트림이 플라즈마 방전에 분사된다.베이스 표면 상에 유전체 재료의 층을 형성하기 위해 베이스 표면 상에 부분 용융 드롭들이 방출된다.그 후, 메사들을 형성하기 위해 새로운 유전체 재료의 층의 재료가 선택적으로 제거된다.개장형 정전 척은 세정 후에 서비스에 되돌아갈 준비가 된다.

대표청구항 ▼

정전 척 바디의 제2 부분을 노출시키기 위해 상기 정전 척 바디의 제1 부분을 제거하는 단계 ―상기 제1 부분은 상기 정전 척 바디의 상부 표면 아래의 제1 깊이를 가지며, 상기 제2 부분은 상기 정전 척 바디의 상기 상부 표면 아래의 제2 깊이를 가짐―;서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스를 사용하여 상기 제2 부분 상에 유전체 재료의 층을 증착하는 단계; 및새로운 상부 표면을 만들기(establish) 위해 상기 유전체 재료의 층으로부터 재료를 선택적으로 제거하는 단계를 포함하며,상기 서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로

정전 척 바디의 제2 부분을 노출시키기 위해 상기 정전 척 바디의 제1 부분을 제거하는 단계 ―상기 제1 부분은 상기 정전 척 바디의 상부 표면 아래의 제1 깊이를 가지며, 상기 제2 부분은 상기 정전 척 바디의 상기 상부 표면 아래의 제2 깊이를 가짐―;서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스를 사용하여 상기 제2 부분 상에 유전체 재료의 층을 증착하는 단계; 및새로운 상부 표면을 만들기(establish) 위해 상기 유전체 재료의 층으로부터 재료를 선택적으로 제거하는 단계를 포함하며,상기 서스펜션 슬러리 플라즈마 스프레이 프로세스는,플라즈마 방전을 생성하는 단계,유전체 재료의 서스펜션 슬러리를 드롭릿(droplet)들의 스트림으로 분무(atomizing)하는 단계 ―상기 서스펜션 슬러리는 액체 또는 반-액체 캐리어 물질에 분산된, 상기 유전체 재료의 나노 크기의 고체 입자들을 포함함―,캐리어 가스의 사용 없이 부분 용융 드롭(partially melted drop)들을 형성하기 위해 상기 플라즈마 방전에 상기 드롭릿들의 스트림을 분사(injecting)하는 단계, 및상기 부분 용융 드롭들을 상기 정전 척 바디의 상기 제2 부분 상에 방출(projecting)함으로써, 상기 노출된 제2 부분 상에 유전체 재료의 층을 형성하는 단계를 포함하는,정전 척을 개장(refurbishing)하기 위한 방법.