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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0079433 (2020-06-29) | |
공개번호 | 10-2022-0001269 (2022-01-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200079433 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
일 실시 예에 따른 냉각 및 가열을 동시에 수행 가능한 스퍼터링 장치는, 트레이를 운송하면서, 상기 트레이에 냉각 및 가열을 동시에 수행 가능하고, 프로세싱 챔버; 상기 프로세싱 챔버의 내부에 위치한 상기 트레이를 향해 성막 물질을 공급하기 위한 타겟; 상기 프로세싱 챔버의 내부에 마련된 히터; 및 상기 프로세싱 챔버의 내부에 마련되고, 상기 타겟 및 히터 사이에 위치되는 온도 조절 파트를 포함하고, 상기 트레이가 상기 온도 조절 파트 및 히터 사이에 위치할 때 상기 트레이를 가열하고, 상기 트레이가 상기 온도 조절 파트 및 타겟
트레이를 운송하면서, 상기 트레이에 냉각 및 가열을 동시에 수행 가능한 스퍼터링 장치에 있어서,프로세싱 챔버;상기 프로세싱 챔버의 내부에 위치한 상기 트레이를 향해 성막 물질을 공급하기 위한 타겟;상기 프로세싱 챔버의 내부에 마련된 히터; 및상기 프로세싱 챔버의 내부에 마련되고, 상기 타겟 및 히터 사이에 위치되는 온도 조절 파트를 포함하고,상기 트레이가 상기 온도 조절 파트 및 히터 사이에 위치할 때 상기 트레이를 가열하고, 상기 트레이가 상기 온도 조절 파트 및 타겟 사이에 위치할 때 상기 트레이를 냉각시키는 온도 조절 파트를
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