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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0077884 (2020-06-25) | |
공개번호 | 10-2021-0002008 (2021-01-06) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2019-122224 (2019-06-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200077884 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
소정의 막 두께 분포를 획득할 수 있다는 기능을 해치지 않고, 메인터넌스 주기를 길게 할 수 있는 스퍼터링 장치를 제공한다.타겟(21)이 설치되는 진공챔버(1)를 구비하고, 진공챔버 내에 타겟에 대향 배치되어 피처리 기판(Sw)을 회전 가능하도록 유지하는 유지수단(3)과, 피처리 기판에 정면으로 대향되고, 타겟에서 소정의 코사인측을 따라 비산하는 스퍼터 입자의 일부만 통과를 허용하는 통과개구(51)가 형성되는 분포 조정판(5)이 설치되는 본 발명의 스퍼터링 장치(SM)는, 분포 조정판의 타겟측에 배치되고, 통과개구를 소정의 분포개구
타겟이 설치되는 진공챔버를 구비하고, 진공챔버 내에 타겟에 대향 배치되어 피처리 기판을 회전 가능하도록 유지하는 유지수단과, 피처리 기판에 정면으로 대향되고, 타겟에서 소정의 코사인측을 따라 비산하는 스퍼터 입자의 일부만 통과를 허용하는 통과개구가 형성되는 분포 조정판이 설치되는 스퍼터링 장치에 있어서, 분포 조정판의 타겟측에 배치되고, 통과개구를 소정의 분포개구로 규제하는 소정의 지름방향 길이를 가지는 제1 규제판과, 제1 규제판에 스퍼터 입자가 부착한 경우에 분포개구의 개구면적이 일정하게 유지되도록 제1 규제판을 이동시키는 제1
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