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공업용수 확보를 위한 반도체 폐수처리 재이용 기술개발
Development of a technology to secure highly-purified industrial water (HPIW) using a semiconductor wastewater 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국건설기술연구원
Korea Institute Of Construction Technology
연구책임자 우윤철
참여연구자 신정훈 , 장암 , 박병무
보고서유형1단계보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2022-10
과제시작연도 2021
주관부처 환경부
Ministry of Environment
등록번호 TRKO202300003719
과제고유번호 1485018386
사업명 고순도공업용수생산공정국산화기술개발사업
DB 구축일자 2023-08-02
키워드 반도체폐수.폐수처리공정.폐수재이용.역삼투공정.고도산화공정.Semiconductor wastewater.Wastewater treatment process.Wastewater reuse.Reverse osmosis.AOP.

초록

□ 연구개발 목표 및 내용
◼ 최종 목표
● 특정오염물질을 배제한 공업용수 수질 급의 처리수질 확보(원수수질대비 TOC 90%, TMAH 95%제거, SiO2 80%, Urea 90% 제거)
● 10 TPD 반도체 폐수 재이용 공정 개발 및 구축을 통한 연속 운전 데이터 확보
● 원수 유입유량 대비 재이용수 생산량(회수율) 80% 달성(RFP 기준 생산량 70% 이상)
● 파일럿 규모의 반도체 폐수재이용 공정에서의 특정오염물질 및 중금속류 거동 분석
● 실험실규모의 공정에서 특정오

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 요 약 문 ... 3
  • 목차 ... 7
  • 1. 연구개발과제의 개요 ... 8
  • 가. 연구개발 목표 ... 8
  • 나. 연구개발 배경 및 필요성 ... 9
  • 다. 연구개발 핵심내용 ... 21
  • 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 22
  • 가. 1차년도 ... 22
  • 나. 1단계 2차년도 ... 76
  • 다. 2단계 1차년도 ... 176
  • 라. 2단계 2차년도 ... 178
  • 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 정도 ... 181
  • 1) 연구수행 결과 ... 181
  • 2) 목표 달성 수준 ... 189
  • 4. 목표 미달 시 원인분석 ... 190
  • 5. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도 ... 190
  • 6. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 190
  • 7. 연구개발비 사용실적 ... 191
  • 8. 중요 연구변경 사항 ... 193
  • 9. 다음 단계 연구개발계획 ... 194
  • 1) 연구개발 목표 및 내용 ... 194
  • 2) 국내외 관련 분야 환경변화 ... 209
  • 3) 연구개발 추진전략 ... 209
  • 4) 연구개발 일정 및 기대 성과 ... 217
  • 5) 다음 단계 연구개발비 사용 계획 ... 221
  • 6) 사업화 추진 계획 ... 225
  • 7) 연구개발 성과의 활용방안 및 기대효과 ... 230
  • 끝페이지 ... 232

표/그림 (226)

참고문헌 (25)

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