[특허]연마액, 화학적 기계적 연마 방법

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[한국특허] 연마액, 화학적 기계적 연마 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C09G-001/02 B24B-037/00 C09K-003/14 H01L-021/304
출원번호	10-2020-7022275 (2020-07-31)
공개번호	10-2020-0102502 (2020-08-31)
등록번호	10-2500452-0000 (2023-02-13)
우선권정보	일본(JP) JP-P-2018-060516 (2018-03-27)
국제출원번호	PCT/JP2019/008082 (2019-03-01)
국제공개번호	WO 2019/187977 (2019-10-03)
번역문제출일자	2020-07-31
DOI	http://doi.org/10.8080/1020207022275
발명자 / 주소	카미무라 테츠야 / 일본국 시즈오카켄 하이바라군 요시다쵸 카와시리 **** 후지필름 가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소	후지필름 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 니시 아자부 쵸메 방 *고
대리인 / 주소	하영욱
심사청구여부	있음 (2020-07-31)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

CMP에 적용한 경우, 피연마면의 결함이 발생하기 어렵고, 질화 규소에 대하여 산화 규소를 보다 선택적으로 연마할 수 있는 연마액, 및 피연마면의 결함이 발생하기 어렵고, 질화 규소의 연마 속도와 산화 규소의 연마 속도가 모두 높은 연마액을 제공한다. 또, 상기 연마액을 사용한 화학적 기계적 연마 방법을 제공한다. 화학적 기계적 연마에 이용되는 연마액으로서, 평균 애스펙트비가 1.5 이상인 세리아 입자와, 음이온계 폴리머 또는 양이온계 폴리머를 포함하며, pH가 3~8인, 연마액에 관한 것이다. 단, 상기 연마액이 상기 음이온계 폴

대표청구항

화학적 기계적 연마에 이용되는 연마액으로서,평균 애스펙트비가 1.5 이상인 세리아 입자와,음이온계 폴리머 또는 양이온계 폴리머를 포함하며,pH가 3~8이고, 상기 세리아 입자는, 그 표면의 적어도 일 영역에 알칼리 토류 금속 원자를 포함하는, 연마액,단, 상기 연마액이 상기 음이온계 폴리머를 포함하는 경우, 상기 연마액은, 카복실산기, 인산기, 포스폰산기, 및 설폰산기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 포함하는, 무기산 또는 유기산을 더 포함한다.

이 특허에 인용된 특허 (1)

[일본] POLISHING LIQUID AND POLISHING METHOD OF SUBSTRATE USING THE POLISH LIQUID | TANAKA TAKAAKI, NOBE SHIGERU, SAKURAI HARUAKI, SHIMADA TOMOKAZU, MATSUMOTO TAKAAKI, YAMASHITA TETSURO
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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