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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-7036794 (2020-12-21) | |
공개번호 | 10-2021-0000731 (2021-01-05) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/676,156 (2018-05-24) | |
국제출원번호 | PCT/US2019/027494 (2019-04-15) | |
국제공개번호 | WO 2019/226252 (2019-11-28) | |
번역문제출일자 | 2020-12-21 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020207036794 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 개시내용은 기판 프로세싱 동안의 온도 감지 및 제어를 위한 방법들 및 장치에 관한 것이다.직접 측정하기 어려운, 프로세싱 동안의 기판 온도들은, 증착된 막 특성들의 검사에 의해 또는 기판 가열 장치의 시간의 경과에 따른 전력 출력의 변화들을 측정함으로써, 결정될 수 있다.프로세싱 동안 많은 기판들에 대한 온도들이 결정되어서, 시간의 경과에 따라 기판 온도들이 어떻게 변화하는지를 보여주며, 그런 다음, 그 온도 변화들은 기계 학습 기법들을 통해 모델들을 구축하는 데 사용된다.모델들은 향후의 프로세싱 동작들에 대한 가열 장치 설정점
프로세스 챔버 내의 복수의 기판들 상에서 복수의 기판 프로세싱 동작들을 수행하는 단계 ― 상기 복수의 기판 프로세싱 동작들 각각 동안 상기 복수의 기판들 중 하나의 기판이 프로세싱됨 ―; 상기 복수의 기판 프로세싱 동작들 동안 상기 복수의 기판들 각각의 기판 온도 변화를 결정하는 단계; 상기 복수의 기판들 각각의 기판 온도에 기반하는 기판 온도 변화 모델에 측정된 프로세스 변수들을 입력하는 단계 ― 상기 기판 온도 변화 모델은, 를 포함하고, 여기서, W1은 제1 기판에 대한 제1 기판 카운트이고, W2는 상기 제1 기판에 대한 제
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