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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0017572 (2021-02-08) | |
공개번호 | 10-2022-0115662 (2022-08-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210017572 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명의 포토공정 인라인 시스템은 웨이퍼 표면에 포토레지스트를 코팅하는 스피너와, 온도 감지 장치를 이용하여 상기 스피너로부터 전송된 상기 웨이퍼의 온도를 측정하고, 상기 웨이퍼에 노광 공정을 처리하는 스캐너와, 상기 스캐너로부터 상기 웨이퍼의 온도가 포함된 온도 정보를 수신하고, 상기 웨이퍼의 온도 정보에 기초하여 제어 신호를 생성하며, 상기 제어 신호를 상기 스피너로 전송하는 온도 제어 모듈을 포함하고, 상기 스피너는 상기 제어 신호에 기초하여 상기 웨이퍼가 장착되는 쿨링 플레이트의 온도를 제어하여 상기 웨이퍼의 온도를 조절한
웨이퍼 표면에 포토레지스트를 코팅하는 스피너; 온도 감지 장치를 이용하여 상기 스피너로부터 전송된 상기 웨이퍼의 온도를 측정하고, 상기 웨이퍼에 노광 공정을 수행하는 스캐너; 및상기 스캐너로부터 상기 웨이퍼의 온도가 포함된 온도 정보를 수신하고, 상기 웨이퍼의 온도 정보에 기초하여 제어 신호를 생성하며, 상기 제어 신호를 상기 스피너로 전송하는 온도 제어 모듈;을 포함하고,상기 스피너는 상기 제어 신호에 기초하여 상기 웨이퍼가 장착되는 쿨링 플레이트의 온도를 제어하여 상기 웨이퍼의 온도를 조절하는 포토공정 인라인 시스템.
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