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감광성 고분자의 개발에 관한 연구(Ⅱ);필름 포토레지스트
Development of Photosensitive Polymers (II);Dry Film Photoresists 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술원
Korea Advanced Institute of Science and Technology
연구책임자 김은영
참여연구자 안광덕 , 인교진 , 김철희 , 강종희
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1984-02
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200200000416
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 감광성 고분자.필름포토레지스트.감광성필름.잔막화상.

초록

고밀도 인쇄회로기판 가공용 필름포토레지스트 감광성고분자를 개발하는 본연구는 (1982~83) 에 걸쳐 수행되었다.
제1차년도에는 유기용제 현상형 필름포토레지스트의 실험실적 합성 및 배합과 화상형성에 따른 감광도 해상력에 대하여 주로 연구하였다. 제2차년도에는 1차년도에서 얻어진 연구 결과를 기초로 하여 실제적인 인쇄회로기판 가공측면에서 중점적으로 연구하였다.
제2차년도 연구내용은 다음과 같다.
가. 필름포토레지스트용 감광성 조성물의 합성과 배합에 따른 필름형성과 노광 및 현상에 의한 감광도와 해상력의 검토

목차 Contents

  • 제 1 장 서론...23
  • 제 1 절 연구의 목적과 범위...23
  • 제 2 절 필름포토레지스트...24
  • 1. 인쇄회로기판 가공의 역사...24
  • 2. 필름포토레지스트의 특징...25
  • 3. 종류 및 제조회사...26
  • 약어해설...28
  • 제 2 장 실험...29
  • 제 1 절 실험재료 및 기기...29
  • 1. 실험재료...29
  • 2. 시약...29
  • 3. 실험기기...31
  • 4. 감광도의 측정...34
  • 5. 해상력 측정 및 잔막수율 측정...40
  • 제 2 절 시판 필름포토레지스트의 분석...43
  • 1. 유기용매 현상형 필름포토레지스트...43
  • 2. 수용액 현상형 필름포토레지스트...44
  • 제 3 절 결합제 고분자의 중합...47
  • 1. 알카리 수용액 현상형...47
  • 2. 유기용매 현상형...49
  • 제 4 절 가공공정과 문제점의 해결...50
  • 1. 구멍뚫기...50
  • 2. 동도금...50
  • 3. 기판세척...52
  • 4. 라미네이션...52
  • 5. 노광...54
  • 6. 현상...57
  • 7. 도금 및 처리과정...59
  • 8. 수지제거...61
  • 9. 도금 단면의 관찰...61
  • 제 3 장 결과 및 고찰...63
  • 제 1 절 유기용매 현상형 필름포토레지스트...63
  • 1. 결합제 고분자...65
  • 2. 광개시제...66
  • 3. 소량 첨가물...75
  • 제 2 절 알카리 수용액 현상형 필름포토레지스트...81
  • 1. 특성...81
  • 2. 결합제 고분자...81
  • 3. 다관능성 모너머...82
  • 4. 광개시제...89
  • 5. 가소제의 첨가...92
  • 6. TBM의 첨가...93
  • 7. 감광도의 비교...95
  • 제 3 절 자외선 조사에 의한 색의 변화...97
  • 1. 색변화 조성물...98
  • 2. 색변화의 반응...99
  • 3. 시제품과의 비교...100
  • 제 4 절 단면의 관찰...101
  • 1. 납/주석 도금가공 시료...103
  • 2. 에칭가공 시료...106
  • 제 4 장 결론...108
  • 1. 유기용매 현상형 필름포토레지스트...112
  • 2. 알카리 수용액 현상형 필름포토레지스트...113
  • 참고문헌...115

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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