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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 김은영 |
참여연구자 | 안광덕 , 인교진 , 김철희 , 강종희 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1984-02 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200000416 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 감광성 고분자.필름포토레지스트.감광성필름.잔막화상. |
고밀도 인쇄회로기판 가공용 필름포토레지스트 감광성고분자를 개발하는 본연구는 (1982~83) 에 걸쳐 수행되었다.
제1차년도에는 유기용제 현상형 필름포토레지스트의 실험실적 합성 및 배합과 화상형성에 따른 감광도 해상력에 대하여 주로 연구하였다. 제2차년도에는 1차년도에서 얻어진 연구 결과를 기초로 하여 실제적인 인쇄회로기판 가공측면에서 중점적으로 연구하였다.
제2차년도 연구내용은 다음과 같다.
가. 필름포토레지스트용 감광성 조성물의 합성과 배합에 따른 필름형성과 노광 및 현상에 의한 감광도와 해상력의 검토
유
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