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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0031804 (2021-03-11) | |
공개번호 | 10-2021-0114890 (2021-09-24) | |
등록번호 | 10-2544077-0000 (2023-06-12) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020200030223 (2020-03-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210031804 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-05-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 금속막 형성용 전구체 조성물 및 이를 이용한 박막 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로 (a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나 이상의 화합물을 포함하는 제1 금속 화합물; 및 (b) 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 금속 화합물;을 포함하는 금속막 형성용 전구체 조성물과 이를 이용한 박막 형성 방법에 관한 것이다.
(a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나 이상의 화합물을 포함하는 제1 금속 화합물; 및(b) 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 금속 화합물;을 포함하는 금속막 형성용 전구체 조성물.[화학식 1](상기 화학식 1에서,R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고,M은 Zr, Ti, 또는 Hf 이며, L은 Si 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이고, X1 내지 X3은 각각 독립적으로 치환 또
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