선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2021-0166705 (2021-11-29) | |
공개번호 | 10-2022-0076365 (2022-06-08) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020200164123 (2020-11-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210166705 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2021-11-29) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 웨이퍼를 이용하여 제조된 초미세 반도체 소자 패턴 및 고효율 세정용 스프레이 노즐에 관한 것으로, 초미세 패턴에 대한 세정 기술의 업그레이드를 통해 세정 공정 시간을 단축하고 폐액 사용량을 최소화하는 친환경 기술에 해당한다.
반도체 공정인 Dry Etching 공정으로 웨이퍼를 홀(hole)로 식각하는 단계 및 상기 식각된 웨이퍼를 어덥터에 장착하여 사용하는 것을 특징으로 하는 스핀 노즐.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.