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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0176113 (2021-12-09) | |
공개번호 | 10-2023-0087295 (2023-06-16) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210176113 | |
발명자 / 주소 | ||
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법적상태 | 공개 |
폴리펩티드, 이를 포함한 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법을 개시한다.
A 영역, B 영역 및 C 영역을 포함하고, 상기 A 영역은 20% 이상의 알라닌 함량을 갖고, 4개 내지 10개의 연속적인 아미노산 잔기를 포함하는 제1반복 단위를 1개 이상 포함하고,상기 B 영역은 10% 이상의 티로신 함량을 갖고, 4개 내지 10개의 연속적인 아미노산 잔기를 포함하는 제2반복 단위를 1개 이상 포함하고,상기 C 영역은 50% 이상의 아스파트산 및 글루탐산 중에서 선택된 1종 이상의 함량을 갖고, 2개 내지 8개의 연속적인 아미노산 잔기를 포함하는 제3반복 단위를 1개 이상 포함하는, 폴리펩티드.
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