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연합인증

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접착 촉진 포토레지스트 하층 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-007/11
  • C08K-005/06
  • C08K-005/18
  • C08K-005/36
  • C08L-071/12
  • H01L-021/033
출원번호 10-2021-0178153 (2021-12-13)
공개번호 10-2022-0088328 (2022-06-27)
등록번호 10-2676441-0000 (2024-06-14)
우선권정보 미국(US) 17/127,434 (2020-12-18)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210178153
발명자 / 주소
  • 죠수아 칼츠 / 미국 ***** 매사추세츠 쉬류즈버리 아버 드라이브 ****
  • 케 양 / 미국 ***** 캘리포니아 쿠퍼티노 존슨 에비누 *****
  • 케렌 장 / 미국 ***** 워싱턴 커클랜드 ***번가 ***** 엔이 아파트먼트 *
  • 리 쿠이 / 미국 ***** 매사추세츠 말보로 포레스트 스트리트 ***
  • 제임스 에프. 카메론 / 미국 ***** 매사추세츠 말보로 포레스트 스트리트 ***
  • 단 비. 밀워드 / 미국 ***** 캘리포니아 유키라 에스. 도라 스트리트 ****
  • 신타로 야마다 / 미국 ***** 매사추세츠 말보로 포레스트 스트리트 ***
출원인 / 주소
  • 듀폰 일렉트로닉 머티어리얼즈 인터내셔널, 엘엘씨 / 미국 매사추세츠 ***** 말보로우 포레스트 스트리트 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인한성
심사청구여부 있음 (2021-12-13)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

폴리(아릴렌 에테르); 화학식 14의 첨가제:[화학식 14]D-(L1-Ar-[X]n)m; 및용매를 포함하며, 화학식 14에서, D는 치환 또는 비치환된 C1-60 유기 기이며, 선택적으로 D는 치환 또는 비치환된 C1-60 유기 기의 유기 산 염이고; 각각의 L1은 독립적으로 단일 결합 또는 2가 연결기이고, L1이 단일 결합인 경우, D는 Ar과 선택적으로 융합된 치환 또는 비치환된 C3-30 시클로알킬 또는 치환 또는 비치환된 C1-20 헤테로시클로알킬일 수 있고, 각각의 Ar은 독립적으로 단환식 또는 다환식 C5-60 방향족

대표청구항

2개 이상의 시클로펜타디에논 모이어티를 함유하는 화합물로부터 유도된 폴리(아릴렌 에테르);하기 화학식 14의 첨가제; 및용매;를 포함하는,포토레지스트 하층 조성물:[화학식 14]D-(L1-Ar-[X]n)m상기 화학식 14에서,D는 치환 또는 비치환된 C1-60 유기 기이며, 선택적으로 D는 상기 치환 또는 비치환된 C1-60 유기 기의 유기 산 염이고;각각의 L1은 독립적으로 단일 결합 또는 2가 연결기이고;L1이 단일 결합인 경우, D는 Ar과 선택적으로 융합된 치환 또는 비치환된 C3-30 시클로알킬 또는 치환 또는 비치환된 C

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 방향족 하층 | 셩 리우, 제임스 에프 카메론, 신타로 야마다, 요우-셩 케, 케렌 장, 다니엘 그린, 폴 제이 라봄, 리 추이, 수잔느 엠 코울리
  2. [한국] 레지스트 하층 조성물 및 그러한 조성물을 사용하여 패턴을 형성하는 방법 | 조슈아 카이츠, 케 양, 케렌 장, 제임스 에프. 카메론, 리 쿠이, 에매드 아퀘드, 신타로 야마다, 폴 제이. 라븀
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