최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2021-7037529 (2021-11-17) | |
공개번호 | 10-2022-0006543 (2022-01-17) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2019-095189 (2019-05-21) | |
국제출원번호 | PCT/JP2020/020016 (2020-05-20) | |
국제공개번호 | WO 2020/235612 (2020-11-26) | |
번역문제출일자 | 2021-11-17 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020217037529 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
법적상태 | 공개 |
흡수층의 에칭 조건에 있어서의 에칭 선택비가 충분히 높고, 또한 염소계 가스와 산소 가스의 혼합 가스를 사용한 드라이 에칭 프로세스에 있어서, 충분한 에칭 속도를 갖는 하드마스크층을 구비한, EUV 마스크 블랭크의 제공을 과제로 한다.본 발명은, 기판 상(11)에, EUV광을 반사하는 반사층(12)과, 루테늄(Ru)을 함유하는 보호층(13)과, 탄탈(Ta)을 함유하고, EUV광을 흡수하는 흡수층(14)과, 하드마스크층(16)이, 이 순으로 형성된 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크에 있어서, 상기 하드마스크층(16)이, 크롬(
기판 상에, EUV광을 반사하는 반사층과, 상기 반사층의 보호층과, EUV광을 흡수하는 흡수층과, 하드마스크층이, 이 순으로 형성된 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크이며,상기 보호층이, 루테늄(Ru)을 함유하고,상기 흡수층이, 탄탈(Ta)을 함유하고,상기 하드마스크층이, 크롬(Cr)과, 질소(N) 및 산소(O) 중 적어도 한쪽을 함유하고,상기 하드마스크층의 막 밀도가 3.00 내지 5.40g/㎤인 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.