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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0016974 (2022-02-09) | |
공개번호 | 10-2023-0120424 (2023-08-17) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220016974 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명의 기술적 사상은, 반도체 소자의 L/S 패턴에 대하여 피치 워크를 신속하고 정확하게 검사할 수 있는 피치 워크 검사 방법, 및 그 검사 방법을 포함한 반도체 소자 제조방법을 제공한다. 그 피치 워크 검사 방법은 다중 패터닝 기술(Multi-Patterning Technology: MPT)로 형성된 L/S(line & space) 패턴에 대한 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지를 획득하는 단계; 상기 SEM 이미지에서 상기 L/S 패턴의 메인 피치를 검출하는 단계; 상기 메인 피치의 그
다중 패터닝 기술(Multi-Patterning Technology: MPT)로 형성된 L/S(line & space) 패턴에 대한 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지를 획득하는 단계;상기 SEM 이미지에서 상기 L/S 패턴의 메인 피치를 검출하는 단계;상기 메인 피치의 그래프를 상기 MPT에 기초하여 부분(component) 피치의 그래프들로 분할하는 단계;상기 부분 피치의 그래프들 각각에 대하여 FFT(Fast Fourier Transform)를 수행하는 단계;상기 부분 피치의 그래프들 각
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