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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0059219 (2022-05-13) | |
공개번호 | 10-2023-0159182 (2023-11-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220059219 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-05-13) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 제1 소재로 형성된 제1 링 부분과 제2 소재로 형성된 제2 링 부분을 포함하는 반도체 제조공정용 유지링에 관한 것으로서, 제1 소재는 합성쿼츠로 형성되고, 제2 소재는 상기 제1 소재보다 내식각성이 높은 소재로 형성되는 것을 특징으로 한다.
제1 소재로 형성된 제1 링 부분과 제2 소재로 형성된 제2 링 부분을 포함하는 반도체 제조공정용 유지링에 있어서,상기 제1 소재는 합성쿼츠로 형성되고,상기 제2 소재는 상기 제1 소재보다 내식각성이 높은 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조공정용 유지링.
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