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[한국특허] 접선 속도 저감 구조가 구비된 화학기상증착 반응기
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR WITH TANGENTIAL VELOCITY REDUCTION STRUCTURE
원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-032/162
  • B01J-008/00
출원번호 10-2022-0112821 (2022-09-06)
공개번호 10-2024-0033927 (2024-03-13)
DOI http://doi.org/10.8080/1020220112821
발명자 / 주소
  • 김민호 / 대전광역시 유성구 문지로 *** LG화학기술연구원
  • 임예훈 / 대전광역시 유성구 문지로 *** LG화학기술연구원
  • 신현진 / 대전광역시 유성구 문지로 *** LG화학기술연구원
출원인 / 주소
  • 주식회사 엘지화학 / 서울특별시 영등포구 여의대로 *** (여의도동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 피씨알
법적상태 공개

초록

본 발명은 배출구 부근의 접선 속도를 저감시켜 나선 형태의 유동 패턴에 의해 발생한 원심력을 약화시켜줌으로써, 제조되는 탄소나노튜브(CNT, Carbon Nano Tube) 입자 배출이 원활하도록 한 접선 속도 저감 구조가 구비된 화학기상증착 반응기에 관한 것이다.

대표청구항

내부에 수용공간이 마련되는 원통 형상으로 형성되며, 하부에 나노 촉매 투입구가 구비되고, 상부에 배출구가 구비되는 하우징;상기 하우징의 내부 상측 내주면에 상기 하우징의 중심축선을 기준으로 방사상으로 소정각도 이격되게 형성되어, 나노 촉매가 상기 투입구의 노즐을 통해 상기 수용공간 내에 투입된 후 나선 형태의 유동 패턴으로 상승하는 반응물의 접선 속도(Tangential velocity)를 감소시켜 원심력을 약화시키는 복수의 리브부재;를 포함하는 화학기상증착 반응기.

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