[특허]에피택셜 공정용 반도체 제조 장치

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에피택셜 공정용 반도체 제조 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C30B-025/10 C30B-025/08 C30B-025/12 H01L-021/67
출원번호	10-2022-0185656 (2022-12-27)
공개번호	10-2023-0104001 (2023-07-07)
우선권정보	대한민국(KR) 1020210193290 (2021-12-30)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020220185656
발명자 / 주소	김형준 / 서울특별시 강남구 압구정로길 , 동 *호(압구정동, 미성아파트) 김병국 / 경기도 수원시 영통구 광교로 , *동 호(이의동, 광교 해모로 아파트) 박왕준 / 경기도 수원시 권선구 수성로 , 동 호(구운동, 삼환아파트) 이남천 / 경기도 수원시 권선구 서수원로 * 금곡 강남아파트 *동 **호
출원인 / 주소	주식회사 비아트론 / 경기도 수원시 권선구 산업로*번길 *(고색동)
대리인 / 주소	김호종
심사청구여부	있음 (2022-12-27)
법적상태	공개

초록 ▼

본 발명은 내부에 열처리되는 평판 기판이 위치하고 상기 평판 기판의 하부에 위치하는 빔 조사판과 상기 평판 기판의 상부에 위치하는 적외선 투과판을 구비하는 공정 챔버 및 상기 빔 조사판을 통하여 상기 평판 기판의 하면으로 레이저 빔을 조사하는 빔 조사 모듈을 포함하며, 상기 공정 챔버는 공정 외부 하우징과 공정 내부 하우징 및 벨로우즈 실을 포함하며, 상기 공정 외부 하우징은 상기 평판 기판이 유입되는 공정 외부 게이트를 구비하고 금속 재질로 형성되며, 상기 공정 내부 하우징은 상기 공정 외부 하우징의 내부에 위치하고 상기 공정 외부 게이트와 관통되는 공정 내부 게이트를 구비하고 세라믹 재질로 형성되며,상기 벨로우즈 실은 상기 고정 외부 게이트와 상기 공정 내부 게이트를 탄성적으로 연결하는 벨로우즈 실을 포함하는 에피택셜 공정용 반도체 제조 장치를 개시한다.

대표청구항 ▼

내부에 열처리되는 평판 기판이 위치하고 상기 평판 기판의 하부에 위치하는 빔 조사판과 상기 평판 기판의 상부에 위치하는 적외선 투과판을 구비하는 공정 챔버 및상기 빔 조사판을 통하여 상기 평판 기판의 하면으로 레이저 빔을 조사하는 빔 조사 모듈을 포함하며,상기 공정 챔버는 공정 외부 하우징과 공정 내부 하우징 및 벨로우즈 실을 포함하며,상기 공정 외부 하우징은 상기 평판 기판이 유입되는 공정 외부 게이트를 구비하고 금속 재질로 형성되며,상기 공정 내부 하우징은 상기 공정 외부 하우징의 내부에 위치하고 상기 공정 외부 게이트와 관통되

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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