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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0186839 (2022-12-28) | |
공개번호 | 10-2023-0104009 (2023-07-07) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020210192703 (2021-12-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220186839 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-12-28) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 내부에 열처리되는 평판 기판이 위치하는 공정 챔버 및 복수 개의 VCSEL 소자를 포함하며, 상기 평판 기판으로 레이저 빔을 조사하는 빔 조사 모듈을 포함하며, 상기 빔 조사 모듈은 상기 VCSEL 소자들의 출력이 동일하게 되도록 공급 전류가 제어되는 VCSEL 소자의 개별 출력 제어가 가능한 기판 열처리 장치를 개시한다.
내부에 열처리되는 평판 기판이 위치하는 공정 챔버 및복수 개의 VCSEL 소자를 포함하며, 상기 평판 기판으로 레이저 빔을 조사하는 빔 조사 모듈을 포함하며,상기 빔 조사 모듈은 상기 VCSEL 소자들의 출력이 동일하게 되도록 공급 전류가 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
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