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연합인증

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리튬-이온 배터리 애노드 물질로서 나노 규모 필라멘트 구조를 갖는 SiOx의 제조 방법 및 이의 용도 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/113
  • C01B-033/18
  • H01M-010/0525
  • H01M-004/02
  • H01M-004/136
  • H01M-004/58
출원번호 10-2022-7004190 (2022-02-08)
공개번호 10-2022-0025150 (2022-03-03)
우선권정보 캐나다(CA) 2,835,583 (2013-11-28)
국제출원번호 PCT/CA2014/051141 (2014-11-28)
국제공개번호 WO 2015/077892 (2015-06-04)
번역문제출일자 2022-02-08
DOI http://doi.org/10.8080/1020227004190
발명자 / 주소
  • 르블랑, 도미닉 / 캐나다 퀘벡 제*아쉬 *지* 쟝띠이 아브뉘. 뒤 싸지때르 ****
  • 게르피, 압델바스 / 캐나다 퀘벡 지*엑스 *두블르베* 브로싸르 불바르 리바르 ****
  • 자그힙, 까림 / 캐나다 퀘벡 지*엔 *떼* 롱거일 뤼 마르셀르 페롱 ****
  • 오빙똥, 삐에르 / 캐나다 퀘벡 지*베 *엘* 부셰르빌 에밀-넬리강 ****
  • 뜨로띠에, 쥴리 / 캐나다 퀘벡 지*지 *지* 미라블 노뜨르-담 *****
출원인 / 주소
  • 하이드로-퀘벡 / 캐나다 에치*제트 *에이* 퀘벡 몬트리올 불바르 르네레베스크 웨스트 **
대리인 / 주소
  • 양영준; 김영
심사청구여부 있음 (2022-02-08)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

x가 0.8 내지 1.2인 SiOx의 나노 필라멘트 입자들의 제조를 위한 방법으로서, 가스성 실리콘 모녹사이드(SiO)를 생성하는 적어도 약 1410℃의 온도에서 실리카(SiO2)와 실리콘(Si) 사이의 융합 반응으로 구성된 단계; 및 상기 SiOx 나노 필라멘트 입자들을 생성하는 상기 가스성 SiO의 응축으로 구성된 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 탄소를 이용하는 것을 포함할 수 있다.

대표청구항

x가 0.8 내지 1.2인 SiOx의 나노 필라멘트 입자들의 제조를 위한 방법으로서,가스성 실리콘 모녹사이드(SiO)를 생성하는 적어도 1410℃의 온도에서 실리카(SiO2) 및 액체 실리콘(Si) 사이의 융합 반응을 포함하는 단계; 및상기 SiOx 나노 필라멘트 입자들을 생성하는 상기 가스성 SiO의 응축을 포함하는 단계로서, 여기서 응축 단계는 로(furnace)의 저온 영역에서 수행되고, 상기 가스성 SiO는 벡터 가스에 의해 상기 저온 영역으로 이동되는, 단계를 포함하는, 방법.

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE (SIOx 0<x<2), SILICON OXIDE PRODUCED BY PRODUCTION METHOD, NEGATIVE ELECTRODE FOR NONAQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY CONTAINING THE SILICON OXIDE, AND NONAQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY INCLUDING THE NEGATIVE ELECTRODE | YAMAHARA KEIJI, KIMURA TAKAHIDE, NAKAMURA KENICHI, ASAMI HARUHIRO
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