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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-7014031 (2022-04-26) | |
공개번호 | 10-2022-0054731 (2022-05-03) | |
등록번호 | 10-2579197-0000 (2023-09-12) | |
우선권정보 | 미국(US) 14/469,573 (2014-08-26) | |
국제출원번호 | PCT/US2015/039296 (2015-07-07) | |
국제공개번호 | WO 2016/032628 (2016-03-03) | |
번역문제출일자 | 2022-04-26 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020227014031 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-04-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
프로세싱 챔버에서 섭씨 약 300도를 초과하는 온도들에서 정전 척의 전압 누설을 실질적으로 감소시키면서 브레이크다운 전압을 증가시키기 위한 방법들 및 장치들을 위한 기법들이 개시된다.
기판 지지 어셈블리로서,상부 표면, 원통형 측벽 및 하부 표면을 갖는 실질적으로 디스크-형상의 세라믹 본체(ceramic body) ― 상기 상부 표면은 진공 프로세싱 챔버에서 상기 상부 표면 위에 기판을 지지하도록 구성되고, 상기 원통형 측벽은 상기 세라믹 본체의 외측 직경(outer diameter)을 정의하며, 상기 하부 표면은 상기 상부 표면 반대쪽에 배치됨 ― ; 상기 세라믹 본체 내에 배치된 전극; 및 상기 상부 표면에 부착되고 상기 상부 표면을 완전히 덮는, 실리콘 및 탄소 함유 층을 포함하며, 상기 실리콘 및 탄소 함
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