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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-7024201 (2022-07-13) | |
공개번호 | 10-2022-0114060 (2022-08-17) | |
우선권정보 | 미국(US) 16/848,113 (2020-04-14) | |
국제출원번호 | PCT/US2021/026948 (2021-04-13) | |
국제공개번호 | WO 2021/211485 (2021-10-21) | |
번역문제출일자 | 2022-07-13 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020227024201 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-07-13) | |
법적상태 | 공개 |
표면들 상에 선택적으로 증착하기 위한 방법들이 개시된다. 본 개시내용의 일부 실시예들은, 할로겐이 실질적으로 존재하지 않고 산소가 실질적으로 존재하지 않는 유기금속성 전구체를 사용한다. 증착은 금속성 표면에 비해 비-금속성 표면 상에 금속 막을 선택적으로 증착하기 위해 수행된다. 본 개시내용의 일부 실시예들은 갭 충전 방법들에 관한 것이다.
프로세싱 방법으로서,증착 프로세스 동안 기판의 제1 표면과 상이한 재료인 제2 표면에 비해 선택적으로 기판의 제1 표면 상에 금속 막을 증착하는 단계를 포함하며, 상기 증착 프로세스는 상기 기판 위로 유기금속성 전구체 및 공반응물을 공동-유동시키는 것을 포함하며, 상기 유기금속성 전구체에는 할로겐이 실질적으로 존재하지 않고 산소가 실질적으로 존재하지 않는, 프로세싱 방법.
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