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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 20-1996-0032455 (1996-10-01) |
| 공개번호 | 20-1998-0019337 (1998-07-15) |
| 등록번호 | 20-0149836-0000 (1999-03-30) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/2019960032455 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (1996-10-01) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 제조공저중 감광액 도포를 위한 장치에 관한 것으로 특히, 웨이퍼를 수용할 수 있도록 하는 공간부를 가지는 도포조와, 이 도포조의 하부에 마련되고 상기 웨이퍼에 도포되지 않고 상기 도포조에 고여있는 감광액을 회수할 수 있도록 하며 도포조의 하부면에 상기 공간부와 연통되도록 마련되는 흡입관과, 이 흡입관의 일정한 위치에 마련되며 감광액을 흡입할 수 있도록 흡입력을 발생시킬 수 있는 흡입펌프로 이루어지는 회수수단을 포함하는 반도체 제조용 감광액 도포 장치에서 흡입관을 직선형으로 형성시킴에 따라 감광액의 흡입할 때에 흡입
웨이퍼를 수용할 수 있도록 하는 공간부를 가지는 도포조와, 이 도포조의 하부에 마련되고 상기 웨이퍼에 도포되지 않고 상기 도포조에 고여있는 감광액을 회수할 수 있도록 하며 도포조의 하부면에 상기 공간부와 연통되도록 마련되는 흡입관과, 이 흡입관의 일정한 위치에 마련되며 감광액을 흡입할 수 있도록 흡입력을 발생시킬 수 있는 흡입펌프로 이루어지는 회수수단을 포함하는 반도체 제조용 감광액 도포 장치에 있어서;상기한 흡입관은 상기 감광액이 내부에 고이지 않도록 직선형으로 이루어지는 것을 특징으로 반도체 제조용 감광액 도포 장치.
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